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    東莞市希爾金屬材料有限公司

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    希爾材料-優(yōu)良清洗效果,用量少,無腐蝕,天然環(huán)保

    熱門關(guān)鍵詞: 防銹清洗劑 多功能清洗劑 金屬表面油污清洗劑 工業(yè)清洗劑

    • 硅晶片線切割后清洗劑
    硅晶片線切割后清洗劑

    希爾硅晶片線切割后清洗劑由多種進(jìn)口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑,針對硅晶片切割后拋光后殘留的硅粉、殘膠,氧化物和油污特別研制。清洗后晶片表面無白班,花斑、腐蝕等不良,適用于各種半導(dǎo)體硅片與硅晶片切割后清洗。

    應(yīng)用領(lǐng)域:主要用于太陽能電池硅晶片切割加工后的清洗,以及半導(dǎo)體芯片、晶圓切割后的清洗。

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    產(chǎn)品特點(diǎn)Product characteristics

    硅晶片線切割后清洗劑應(yīng)用

    √ 專用于硅晶片材質(zhì),潔凈度高

    √ 清洗后表面無花斑,無白斑

    √ 清洗效果好,無殘留,不影響導(dǎo)電性能

    √ 原液濃度高,槽液壽命長,可循環(huán)使用

    √ 水基安全,低泡型,易漂洗,無殘留

    √ 符合voc指標(biāo)要求和歐盟RoHS認(rèn)證

    專用硅晶片清洗  無花斑白斑  易漂洗  環(huán)保無味不傷手

    理化指標(biāo)Physical and chemical indicators

    外觀 無色至微黃色液體 密度 1.00-1.10g/L
    pH 10.0-11.5(工作液) 安全 不可燃,無腐蝕
    環(huán)保 無磷,不含鹵素,符合歐盟RoHS要求

    工藝流程Process flow

    工藝流程

    注意事項(xiàng)Precautions for use

    • 使用方式

      恒溫清洗/超聲波清洗/平面線清洗

    • 使用方法

      按比例稀釋成工作液后,加熱至40-60度,超聲波清洗4-6分鐘。對于重污垢工件,延長清洗時間或使用多槽多次方式徹底清洗干凈。

    • 工作液維護(hù)

      1、定期檢查槽液溫度、液位,及時補(bǔ)水及相應(yīng)比例補(bǔ)加原液。

      2、按規(guī)定時間定期更換槽液。

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