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太陽能硅晶片清洗劑

希爾太陽能硅晶片清洗劑針對電子級、太陽能級硅片在IT及太陽能電池領(lǐng)域的特殊清洗要求而研發(fā)，該產(chǎn)品為單組分，對動物油、植物油、礦物油污、懸浮液、碾磨膏的乳化、皂化、洗凈性都有很好的表現(xiàn)，對金屬離子有很強的剝離、絡(luò)合、洗凈效果，環(huán)保性好，清洗能力強。

應(yīng)用領(lǐng)域：主要用于太陽能電池硅晶片切割加工后的清洗，以及半導體芯片、晶圓切割后的清洗。

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產(chǎn)品特點Product characteristics

√ 專用于硅晶片材質(zhì)，潔凈度高

√ 低泡，能滿足高精度的IT要求

√ 槽液使用壽命長，可循環(huán)使用

√ 清洗效果好，無殘留，不影響導電性能

√ 低氣味，不腐蝕，無毒，無閃點，不燃不爆

√ 不含金屬離子，也含磷，符合歐盟RoHS認證要求

專用硅晶片清洗無花斑白斑易漂洗環(huán)保無味不傷手

理化指標Physical and chemical indicators

外觀	黃色透明液體	密度	1.10-1.2g/L
pH	13.0-14.0（工作液）	安全	不可燃，無腐蝕
環(huán)保	無磷，不含鹵素，符合歐盟RoHS要求

工藝流程Process flow

工藝流程

注意事項Precautions for use

使用方式

恒溫清洗/超聲波清洗/平面線清洗
使用方法

在清洗槽中先加 3/4 槽純凈水，然后按 3~5%濃度加入清洗劑，然后將純凈水加至操作液位，加溫到所需溫度，即可以使用。清洗溫度:50-65℃，處理時間:2~5分鐘。
工作液維護

1、定期檢查槽液溫度、液位，及時補水及相應(yīng)比例補加原液。

2、按規(guī)定時間定期更換槽液。

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不銹鋼鈍化液是采用環(huán)保有機酸、中間體助劑、緩蝕劑及促進劑化合而成，不含酸蝕成份，無毒無味、常溫使用，符合當今環(huán)保RoHS標準，可有效保證鈍化過程中不會破壞工件原色澤、不改變工件尺寸，并大大提高不銹鋼工件抗鹽霧性能。應(yīng)用領(lǐng)域：適用201、301、304、303、316、410、420、430、630、409、663、420F、430F、443等不銹鋼件的鈍化防銹耐鹽霧處理。

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希爾金屬清洗劑是采用新配方工藝精制，具有良好的剝離、溶解有色金屬表面氧化物和油脂蠟垢的能力，且使用方便安全，對大部份金屬材料和飾面都沒有影響，具有良好的緩蝕性，適用各種金屬制品除各種油污、拋光蠟。應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛適用各種金屬、不銹鋼、鋁材合金、銅材、鐵材、鋅鎂鈦合金等工件表面清洗機加工油污油脂、拋光蠟與氧化物，效果較好。

: 光學玻璃清洗劑

希爾光學玻璃清洗劑是一種水基環(huán)保清洗劑，對于玻璃蝕刻、CNC、精雕、強化、鋼化、絲印、研磨、拋光、鍍膜前后等均可清洗，主要是洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、瀝青、水垢、水印、灰塵、白點、霉點、指紋等各種臟污，以及平磨后的研磨粉與玻璃粉等，清洗良率達99.99%以上，潔凈度高，不發(fā)蒙。應(yīng)用領(lǐng)域：適用各種光學玻璃、光學零部件、石英玻璃、微晶玻璃、發(fā)電玻璃、導電玻璃、lcd與led、玻璃蓋板、藍寶石、鏡片等。

: 手機玻璃清洗劑

希爾手機玻璃清洗劑對于玻璃蝕刻、精雕后、強化前后、鋼化后、絲印后、平磨后、鍍膜前后等工序均可清洗，主要是清洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、灰塵、霉點、指紋，以及研磨粉以及玻璃粉等臟污，清洗良率高達99.99%以上，潔凈能力強、成本低，是一款環(huán)保、水基型玻璃清洗劑產(chǎn)品！應(yīng)用領(lǐng)域：適用各種光學玻璃、手機玻璃蓋板、LCD、光學鏡片、藍寶石、ITO玻璃、鏡頭、鏡片、攝像頭，顯示器、液晶玻璃等產(chǎn)品。